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等離子體清洗機

等離子體清洗采用氣體作為清洗介質, 不存在使用液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。等離子體清洗機工作時真空清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面, 短時間的清洗就可以使污染物被徹底地清洗掉, 同時污染物被真空泵抽走, 其清洗程度可達到分子級。

等離子體是由Sir William Crookes在1879年發現的。而等離子體清洗機應用于工業, 源于20世紀初。并且隨著等離子體物理研究的深入, 其應用越來越廣, 目前已在眾多高科技領域中, 居于關鍵技術的地位。等離子清洗技術對產業經濟和人類文明影響最大的, 首推電子資訊工業, 尤其是半導體業與光電工業。

目前已廣泛應用的物理化學清洗方法, 大致可分為兩類:濕法清洗和干法清洗。干法清洗中發展較快、優勢明顯的是等離子體清洗, 等離子體清洗已逐步在半導體制造、微電子封裝、精密機械等行業開始普遍應用。濕法清洗要大量使用酸堿等化學物質, 而且清洗后產生大量的廢氣、廢液。當然濕法清洗目前在清洗工藝中還占據主導地位。但是從對環境的影響、原材料的消耗來看, 干法清洗要明顯優于濕法清洗, 更應是未來清洗方法的發展方向。

我司從事等離子體清洗行業已經二十年，是國內最早一批從事真空及大氣低溫等離子體（電漿）技術、射頻及微波等離子體技術研發、生產、銷售于一體的國家高新技術企業，隸屬于東信高科等離子科技（香港）控股有限公司，總部設于香港 。公司目前生產的等離子清洗設備有，大氣等離子體清洗機，真空等離子體清洗機，線性輝光等離子體清洗機，FPC/PCB 等離子刻蝕機。產品廣泛應用于微波印制電路、FPC、觸摸屏、LED、wire$DieBonding、醫療行業、培養皿處理、材料表面改性及活化等領域。歡迎廣大新老客戶致電咨詢。